CEFINE Base en Polvo Húmedo de Seda Recarga Cobertura Piel de Seda
Descrição
Base em pó selecionada por profissionais
Base em pó desenvolvida com as palavras-chave "leve, suave e difícil de borrar.
Foi escolhida por maquiadores profissionais para uso em sessões de fotos, e estamos confiantes de que este produto será a melhor escolha. É leve e não gruda em máscaras, então pode ser usado com confiança.
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