Refil Base em Pó CEFINE Silk Wet com Cobertura e Acabamento Seda
Descrição
Base em pó escolhida por profissionais
Base em pó desenvolvida com as palavras-chave “leve, suave e difícil de borrar”.
Foi escolhida por maquiadores profissionais para uso em ensaios fotográficos, e temos certeza de que este produto será a melhor escolha. É leve e não gruda na máscara, então você pode usar com confiança.
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