KOSE Clear Turn Sorry Mascarilla para piel desnuda 7 hojas

Produktbeschreibung

Dieses Produkt ist eine Maske, die in Zusammenarbeit mit einem beliebten Illustrator entworfen wurde und Hyaluronsäure enthält, die in mikronadelartige Patches kristallisiert wurde. Die Maske ist speziell zur Behandlung von Haut entwickelt worden, die leicht von äußeren Stressfaktoren, wie Trockenheit, und unregelmäßigen Lebensstilen, beeinflusst wird. Bei regelmäßiger Anwendung wird Ihre Haut gesünder und weniger anfällig für Schwankungen sein. Diese Maske behandelt schnell Haut, die durch Stress rau geworden ist, und lässt sie glatt und revitalisiert zurück.

Produktspezifikation

Produktgröße (H x T x B): 28mm x 155mm x 215mm. Der Markenname ist CLEAR TURN und es wird von Kose Cosmepport hergestellt.

Inhaltsstoffe

Die Maske enthält eine Vielzahl von Inhaltsstoffen, die zu ihrer Wirksamkeit beitragen. Dazu gehören Wasser, BG, DPG, PPG-10 Methylglucose, Glycerin, Pflaumenfruchtextrakt, Granatapfelschalenextrakt, Chrysophyll-Pilzextrakt, Thallusblattextrakt, Natriumhyaluronat, EDTA-2Na, PEG-8, (Acrylate/Alkylacrylat (C10-30)) PEG-50 hydriertes Rizinusöl, Carbomer, Diglycerin, Triethylhexanoin, Natriumhydroxid, Dialkylcarbonat (C14,15) und Phenoxyethanol.

Anwendung

Für optimale Ergebnisse, tragen Sie die Maske auf saubere Haut nach der Reinigung auf. Nach der Verwendung der Maske wird empfohlen, eine milchige Lotion oder Creme auf die Haut aufzutragen, um bessere Ergebnisse zu erzielen.