KOSE Clear Turn Sorry Bare Skin Mask 7 sheets

KRW ₩7,000 热销

产品描述 本产品是与一位知名插画师合作设计的面膜,含有结晶成针状的透明质酸微针贴片。该面膜专为易受外界环境如干燥及不规律生活方式影响的肌肤设计。定期使用能够使肌肤保持健康,减少波动。本面膜可迅速处理因压力导致变粗糙的肌肤,使其恢复平滑和活力。 产品规格 产品尺寸(高 x 深 x 宽):28毫米 x 155毫米 x 215毫米。品牌为CLEAR TURN,由科颜氏(Kose Cosmepport)制造。 成分 面膜包含多种有效成分,包括水、丁二醇、二丙二醇、PPG-10甲基葡萄糖醚、甘油、李子果提取物、石榴皮提取物、黄芩菌提取物、藻类叶提取物、透明质酸钠、EDTA-2Na、PEG-8、(丙烯酸盐/烷基丙烯酸(C10-30))PEG-50氢化蓖麻油、卡波姆、二甘醇、三乙基己酸酯、氢氧化钠、戊二醇二酯(C14,15)、苯氧乙醇。 使用方法 为达到最佳效果,在洁面后的清洁肌肤上使用面膜。使用面膜后,建议涂抹乳液或面霜以获得更佳效果。
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产品描述

本产品是与一位知名插画师合作设计的面膜,含有结晶成针状的透明质酸微针贴片。该面膜专为易受外界环境如干燥及不规律生活方式影响的肌肤设计。定期使用能够使肌肤保持健康,减少波动。本面膜可迅速处理因压力导致变粗糙的肌肤,使其恢复平滑和活力。

产品规格

产品尺寸(高 x 深 x 宽):28毫米 x 155毫米 x 215毫米。品牌为CLEAR TURN,由科颜氏(Kose Cosmepport)制造。

成分

面膜包含多种有效成分,包括水、丁二醇、二丙二醇、PPG-10甲基葡萄糖醚、甘油、李子果提取物、石榴皮提取物、黄芩菌提取物、藻类叶提取物、透明质酸钠、EDTA-2Na、PEG-8、(丙烯酸盐/烷基丙烯酸(C10-30))PEG-50氢化蓖麻油、卡波姆、二甘醇、三乙基己酸酯、氢氧化钠、戊二醇二酯(C14,15)、苯氧乙醇。

使用方法

为达到最佳效果,在洁面后的清洁肌肤上使用面膜。使用面膜后,建议涂抹乳液或面霜以获得更佳效果。

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