CEFINE Refil pó base Silk Wet cobertura natural resistente a máscara Silk Skin
Descrição
Base em pó escolhida por profissionais
Base em pó desenvolvida com as palavras-chave “leve, suave e difícil de borrar”.
Foi escolhida por maquiadores profissionais para uso em sessões de fotos, e temos confiança de que este produto será a melhor escolha. É leve e não gruda na máscara, para você usar com segurança.
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Foi escolhida por maquiadores profissionais para uso em sessões de fotos, e temos confiança de que este produto será a melhor escolha. É leve e não gruda na máscara, para você usar com segurança.
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